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　　6月25日，台积电在上海国际会议中心举办“2026年中国技术论坛 ”（闭门会） ，向客户和合作伙伴分享其最新技术研发进展与行业洞察
，显示全球半导体产业的高增长确定无疑 。

　　业内人士认为，台积电本次闭门会再度坚定了业界的AI信仰 ，其晶圆制造和先进封装扩产
，具有产业发展趋势风向标意义。随着晶圆厂和封装厂次第加入到扩产序列，半导体设备和材料商 ，将率先受益于AI带来的本轮扩产大潮
。

　　今年产业突破1万亿美元大关

　　面对AI爆发式增长
，台积电预计，全球半导体市场将在今年突破1万亿美元 ，并在2030年达到1.5万亿美元。

　　台积电认为，需求主要来自高性能计算（HPC）和AI领域
，占整体市场的55%；其次，智能手机需求约占20% ，汽车与物联网需求则各占约10% 。

　　先进制程技术按计划推进

　　作为全球晶圆代工“一哥
”
，台积电的先进制程产能持续供不应求
。

　　在本次闭门会上，台积电表示 ，N2（2纳米半导体制造工艺）已于2025年第四季度进入量产。2纳米家族创新方面
，N2P按计划于2026年下半年投入量产；搭载超级电轨的A16预计于2026年下半年生产就绪；N2X与N2U将分别计划于2027年和2028年量产 。

　　在2纳米之后的下一代晶体管架构上，台积电继续创新
。

　　台积电表示 ，晶体管架构已从平面结构演进至FinFET
，目前正进一步迈向纳米片结构。在纳米片之后，垂直堆叠的nFET与pFET ，即互补场效应晶体管技术（CFET）
，有望成为未来的微缩候选方案 。

　　近期，台积电展示了全球最小的可运行6TSRAM存储单元 ，相比采用相近设计规则的传统纳米片设计，其占用面积（footprints）缩小约30%
。

　　先进封装和系统集成持续创新

　　台积电表示
，CoWoS先进封装技术是AI训练和推理的关键推动力。

　　今年，台积电宣布全球最大的5.5倍光罩尺寸CoWoS已进入量产 ，良率超过98% 。

　　台积电表示
，未来五年，CoWoS技术将逐年迭代并扩大尺寸 ，以整合更多逻辑和HBM晶粒
。

　　其中
，可整合20个HBM的14倍光罩尺寸CoWoS将于2028年量产；可整合24个HBM
、超过14倍光罩尺寸的版本预计于2029年准备就绪。

　　在创新的系统级晶圆（TSMC-SoW?）异构集成技术上，台积电可将中介层尺寸扩展至超过40倍光罩尺寸 ，支持多达64个HBM和16个运算芯片的集成
，并为实现完整的系统整合提供极佳的替代平台 。

　　其中，用于逻辑晶粒整合的SoW-P自2024年起开始量产；更先进的SoW-X技术可整合逻辑与HBM晶粒 ，预计于2029年就绪。

　　相比采用2.5D互连的CoWoS
，具备3D互连的SoIC先进封装技术，可提供56倍的互连密度和5倍的功耗效率
。SoIC技术将持续微缩 ，计划于2028年实现6μm键合间距的N2对N2堆叠量产，并于2029年实现4.5μm键合间距的A14对A14堆叠。

　　加速扩产

　　为满足客户对AI和HPC的强劲需求
，台积电表示将持续加快扩产 。

　　从2017年至2024年，台积电平均每年建设4座新的晶圆厂
。2026年 ，台积电计划新建9座厂区。

　　台积电表示
，2022年至2026年，客户对AI加速器（AI accelerator）的需求量增长了11倍 ，对大晶粒芯片晶圆（large die wafer）需求增长6倍 。

　　台积电也正积极扩充CoWoS和SoIC产能
，计划2022年至2027年年复合增长率将超过80%，以满足强劲的AI应用需求
。

　　传递三大核心信息

　　半导体业内人士认为 ，台积电本次技术论坛
，传递出三大核心信息，其产业链投资机遇值得关注。

　　一、破除AI泡沫论 。AI需求增长更快 ，台积电原有的扩产步伐已经满足不了市场需求
。

　　台积电计划
，2026年至2028年N2/A16先进工艺产能年复合增速达70%；2022年至2027年，N3 、N5成熟先进制程产能年增长25%；N2首年晶圆产出量较N3同期高出45%。

　　二
、先进封装是未来5—10年的核心增长赛道 ，与华为“韬定律
”所看到的市场需求“不谋而合” 。

　　台积电计划，CoWoS、SoIC先进封装产能2022年至2027年年复合增速超80%
。

　　市场调研机构Yole分析师赵灿此前在演讲中表示
，2025年全球先进封装的市场为540亿美元，预计到2031年将增长到1090亿美元 ，实现规模翻倍。其中
，2.5D/3D封装将成为增长主力，核心驱动力则来自AI产业高速发展 。

　　三 、半导体设备
、材料商 ，率先受益于晶圆制造、先进封装扩产。

　　先进制程产能扩张
，半导体前道八大设备商（光刻机 、刻蚀机
、薄膜沉积设备、离子注入机 、化学机械抛光设备
、清洗设备、前道检测与量测设备）将受益
。

　　在先进封装方面，玻璃基板处理 、光阻涂布、曝光
、镀铜、研磨 、贴片
、模封、检测及分选等九大环节 ，相关半导体设备与材料商将受益。

　　作者：李兴彩

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